搞科创板要晓得的~~~当前中国自从出产的光刻机，正在分歧手艺线和使用场景下已实现多档位纳米级冲破，支流及前沿如下： 1。前道光刻机：上海微电子的SSA800是已交付的28nm淹没式DUV光刻机，2025年已正在中芯国际工场完成测试且图案输出不变，可笼盖28nm、40nm等工艺。此前其推出的干式氟化氩光刻机，还能实现65nm制程。2。纳米压印光刻机：2025年8月杭州璞璘科技交付的PL - SR系列纳米压印光刻机，线纳米，相关手艺目标已超次日本佳能部门旗舰产物。3。电子束光刻机：2025年8月面世的“羲之”电子束光刻机，线纳米，暂不适合大规模量产。4。后道光刻机：2025年11月上海芯上微拆交付的AST6200步进光刻机，分辩率为350nm，专为功率！